高村 由起子 (TAKAMURA, Yukiko)教授
マテリアルサイエンス, ナノマテリアル・デバイス研究領域, 超越量子未来アリーナ, ナノマテリアルテクノロジーセンター

Misc

78件
2次元材料の電子状態解析—シリセン研究における実験と計算の協奏
高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助
応用物理, 86, 6, 488-492, 2017
シリセン : π電子を有するモノレイヤーケイ素シートの化学—特集 モノレイヤーの科学,ナノシートの世界(2)
ライナー フリードライン, 高村(山田) 由起子
化学と工業 = Chemistry & chemical industry, 66, 11, 900-902, 2013
シリセン : ケイ素で出来たグラフェン?(最近の研究から)
高村(山田) 由起子, フロランス アントワーヌ, フリードライン ライナー, 尾崎 泰助
日本物理学会誌, 68, 5, 305-308, 2013
窒化物半導体薄膜の走査プローブ顕微鏡による微視的評価
高村(山田) 由起子, 王 治涛, 藤川 安仁, 櫻井 利夫
応用物理, 76, 5, 499-504, 2007
気相堆積c-BN薄膜とその機械的性質—小特集・硬質材料
高村 由起子, 吉田 豊信
トライボロジスト = Journal of Japanese Society of Tribologists / 日本トライボロジー学会 編, 44, 9, 673-679, 1999
AI agentとロボット技術を統合した高品質二次元半導体作製
出原渉, 高村由起子, 大島義文, 麻生浩平, 渡邊賢司, 谷口尚, 俣野眞一朗, 松田一成
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 73rd, -, 2026
シリセンをベースとした複合二次元材料とヘテロ積層構造
高村(山田)由起子
日本化学会春季年会講演予稿集(Web), 105th, -, 2025
次元性と環境の誘電率を考慮した置換ドープWSe2におけるドーパントのイオン化エネルギーの定量的考察
金橋魁利, 田中一樹, 西村知紀, 麻生浩平, LU Anh Khoa Augustin, 森戸智, CHEN Limi, 掛谷尚史, 渡邉聡, 大島義文, 高村(山田)由起子, 上野啓司, AZIZI Amin, 長汐晃輔
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 72nd, -, 2025
編集委員・外部記者が見た! 秋季学術講演会
西山 伸彦, 名村 今日子, 加藤 直彦, 寺本 章伸, 高村(山田) 由起子, 植田 暁子, 太田 泰友, 藤田 奈津子, 森下 弘樹
応用物理, 93, 12, 680-680, 2024
化学的に調整した半導体モアレ超格子【JST・京大機械翻訳】
ZHANG Wenjin, LIU Zheng, NAKAJO Hiroshi, NAKAJO Hiroshi, NAKAJO Hiroshi, AOKI Soma, AOKI Soma, WAN Haonan, WANG Yanlin, GAO Yanlin, MARUYAMA Mina, KAWAKAMI Takuto, MAKINO Yasuyuki, KANEDA Masahiko, CHEN Tongmin, ASO Kohei, OGAWA Tomoya, ENDO Takahiko, NAKANISHI Yusuke, WATANABE Kenji, TANIGUCHI Takashi, OSHIMA Yoshifumi, YAMADA-TAKAMURA Yukiko, KOSHINO Mikito, OKADA Susumu, MATSUDA Kazunari, KATO Toshiaki, KATO Toshiaki, MIYATA Yasumitsu
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 5, 5, -, 2024
電界キャリアドーピングによる単結晶配向二ホウ化ジルコニウム薄膜の超伝導発現可能性の探索
永野辰樹, 下川貴也, 岩下稜, FLEURENCE A., 吉田靖雄, 島村一利, 高村(山田)由起子
日本物理学会北陸支部定例学術講演会講演予稿集(Web), 2024, -, 2024
InSb(111)A上のスタネン成長に向けたSn蒸着量の影響
横尾雄士, FLEURENCE Antoine, 高村(山田)由起子
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 85th, -, 2024
電子照射によりスイッチしたGaSeナノリボンのその場TEM観察【JST機械翻訳】
NAKASHIMA Mai, CHEN Limi, ASO Kohei, YAMADA-TAKAMURA Yukiko, OSHIMA Yoshifumi
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集, 67th, -, 2024
非縮退および縮退NbドープWSe_2におけるp+型から両極性への転移【JST機械翻訳】
KANAHASHI Kaito, TANAKA I., NISHIMURA T., ASO K., CHEN L., KAKEYA T., OSHIMA Y., YAMADA-TAKAMURA Y., UENO K., NAGASHIO K.
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集, 67th, -, 2024
電気応答GaSeナノリボンのその場TEM観察
Nakashima MAI, Chen Limi, Aso Kohei, Yamada-Takamura Yukiko, Oshima Yoshifumi
日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web), 2024, 3P95-, 2024
高角度ツイストWTe2における疑一次元モアレの観測
YANG Xiaohan, CHEN Limi, ZHANG Yijin, ASO Kohei, YAMAMORI Wataru, MORIYA Rai, WATANABE Kenji, TANIGUCHI Takashi, SASAGAWA Takao, YAMADA-TAKAMURA Yukiko, OSHIMA Yoshifumi, MACHIDA Tomoki
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 85th, -, 2024
ヤヌスMoSSeナノスクロールの作製と評価
金田賢彦, ZHANG W., LIU Z., GAO Y., 丸山実那, 中西勇介, 中條博史, 中條博史, 中條博史, 青木颯馬, 青木颯馬, 本田航大, 小川朋也, 橋本和樹, 遠藤尚彦, 麻生浩平, CHEN T., 大島義文, 高村由起子, 高橋康史, 高橋康史, 岡田晋, 加藤俊顕, 加藤俊顕, 宮田耕充
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 84th, -, 2023
二ホウ化物薄膜上に自発的に形成される二次元フラットバンドマテリアルの研究
高村(山田)由起子
日本板硝子材料工学助成会成果報告書(Web), 41, -, 2023
二ホウ化物薄膜上に形成されたエピタキシャルシリセンにおける転位消滅
Fleurence Antoine, Yamada-Takamura Yukiko
日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web), 2023, -, 2023
ZrB2(0001)薄膜表面上の二次元Ge二重三角格子
深谷 有喜, 高村 由起子
PHOTON FACTORY NEWS, 39, 3, 24-27, 2021
多層GaSeの電気伝導における電子線照射効果のその場TEM観察
福本 航大, 刘 春萌, 新田 寛和, Fleurence Antoine, 高村(山田) 由起子, 大島 義文
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2021.1, 2894-2894, 2021
基板に安定化された新しい二次元材料【JST・京大機械翻訳】
YAMADA-TAKAMURA Yukiko
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集, 61st, -, 2021
β-Ga2O3 (\overline{2}01) 単結晶の表面再構成構造解析
脇坂 祐斗, フロランス アントワーヌ, 村上 達也, 高村(山田) 由起子研究
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2020.1, 3503-3503, 2020
Ge(111)基板上にMBE成長したGaSe薄膜の平面STM・STEM観察
陳 桐民, 米澤 隆宏, 村上 達也, 東嶺 孝一, アントニー フローランス, 大島 義文, 高村(山田) 由起子
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2020.1, 1438-1438, 2020
非柱状単位層構造を有する層状Ⅲ族モノカルコゲナイド薄膜のMBE成長
米澤 隆宏, 村上 達也, 東嶺 孝一, 陳 桐民, 新田 寛和, 久瀬 雷矢, アントワーヌ フロランス, 大島 義文, 高村(山田) 由起子
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2020.1, 3473-3473, 2020
基板によって安定化された二原子層GaSeの電子状態
新田 寛和, 米澤 隆宏, フロランス アントワーヌ, 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2019.2, 1573-1573, 2019
ポストグラフェン材料とそのヘテロ構造の形成及び電子状態解析
高村(山田)由起子
表面科学研究会予稿集, 91st, -, 2018
異なる単層構造を持つGaSeの構造と電子状態に関する第一原理計算
新田 寛和, 米澤 隆宏, 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助
日本物理学会講演概要集, 73.2, 2, 2019-2019, 2018
シリセン-Ge合金のバンド工学【JST・京大機械翻訳】
FLEURENCE A., YONEZAWA T., YAMANE H., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA Y.
UVSOR Activity Report, 2017, -, 2018
H-BN単分子層の下でのZrB_2上へのエピタキシャルシリセンの自己カプセル化【JST・京大機械翻訳】
FLEURENCE A., YONEZAWA T., DE JONG M. P., OCHAPSKI M. W., YAMANE H., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA Y.
UVSOR Activity Report, 2017, -, 2018
MBE法によるGe(111)基板上へのGaSe成長
米澤 隆宏, 村上 達也, 東嶺 孝一, アントワーヌ フロランス, 大島 義文, 高村(山田) 由起子
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2017.1, 3915-3915, 2017
単元素二次元材料の形成と評価:シリセンを越えて
高村(山田) 由起子
日本物理学会講演概要集, 72.1, 1, 2559-2560, 2017
シリセン/ZrB2/Si(111)表面へのNO吸着と反応
向井 孝三, 上田 博昭, 芳倉 佑樹, 宮原 亮介, 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助, 吉本 真也, 吉信 淳
日本物理学会講演概要集, 72.1, 1, 2633-2633, 2017
ZrB2(0001)上のエピタキシャルシリコンの水素化
FLEURENCE A., YONEZAWA T., WALLACE S., HORIBE S., KATO T., YAMANE H., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA And Y.
UVSOR Activity Report, 2016, -, 2017
Ge(111)ウエハ上に成長させたGaSe薄膜の電子構造
YONEZAWA T., FLEURENCE A., YAMANE H., WALLACE S., HORIBE S., KATO T., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA Y.
UVSOR Activity Report, 2016, -, 2017
シリコンおよびゲルマニウムの二次元合金の電子構造
FLEURENCE A., HUET C., WALLACE S., WIGGERS F., YAMANE H., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA And Y.
UVSOR Activity Report, 2016, -, 2017
ZrB2(0001)上の二層シリコン
FLEURENCE A., WIGGERS F., WALLACE S., HUET C., YAMANE H., KOSUGI N., YAMADA-TAKAMURA And Y.
UVSOR Activity Report, 2016, -, 2017
Investigation of core level quasiparticles in epitaxial silicene by density functional theory
吉信 淳, 向井 孝三, 吉本 真也, 上田 博昭, 高村 由起子, 尾崎 泰助
日本物理学会講演概要集, 72.1, 1, 2605-2605, 2017
h-BN終端ZrB2薄膜上のエピタキシャルシリセン
WIGGERS F. B., FLEURENCE A., AOYAGI K., YONEZAWA T., YAMANE H., YAMADA-TAKAMURA Y., KOSUGI N., KOVALGIN A. Y., DE JONG M. P.
UVSOR Activity Report, 2016, -, 2017
22aAJ-6 エピタキシャルシリセンへのGe蒸着によるシリセン・ゲルマネンヘテロ構造の形成
粟谷 悠人, 高村(山田) 由起子
日本物理学会講演概要集, 71.1, 1, 2627-2627, 2016
16pCA-6 シリセン/ZrB_2/Si(111)のフォノン分散とシリセンの構造
向井 孝三, 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助, 吉本 真也, 吉信 淳
日本物理学会講演概要集, 70.2, 2, 2241-2241, 2015
シリセンの素子材料としての可能性
高村(山田) 由起子
表面科学学術講演会要旨集, 35, 5-5, 2015
Si(111)上ZrB(sub)2(sub)薄膜の窒化による単原子層hBNの形成
青柳 航平, 尾崎 泰助, 高村(山田) 由起子
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2014.2, 118-118, 2014
8aAS-11 Novel two-dimensional silicon and germanium allotropes : a first-principles study
GIMBERT Florian, LEE Chi-Cheng, FRIEDLEIN Rainer, FLEURENCE Antoine, YAMADA-TAKAMURA Yukiko, OZAKI Taisuke
日本物理学会講演概要集, 69.2.4, 2, 646-646, 2014
8aAS-2 一酸化窒素(NO)とシリセン/ZrB_2/Si(111)の相互作用(8aAS グラフェン・シリセン,領域9(表面・界面,結晶成長))
吉信 淳, 吉本 真也, 向井 孝三, 清水 皇, 小板谷 貴典, 則武 宏幸, 高村 由起子
日本物理学会講演概要集, 69.2.4, 2, 644-644, 2014
シリセン:π電子を有するモノレイヤーケイ素シートの合成と評価
高村(山田)由起子
日本化学会講演予稿集, 94th, 1, -, 2014
ZrB2上のエピタキシャルsiliceneの大規模第一原理計算
LEE C.-C., FLEURENCE A., FRIEDLEIN R., YAMADA-TAKAMURA Y., OZAKI T.
Abstract. JSAP-MRS Joint Symposia (CD-ROM), 2013.2, 805-805, 2013
シリセンの合成と構造・電子状態評価
高村(山田) 由起子
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2013.1, 98-98, 2013
企画の意図
川山 巌, 河野 良介, 高村 由起子, 山口 雅浩
應用物理, 82, 2, 105-, 2013
エピタキシャルシリセンにおける座屈に基づくπ-バンドギャップ開口
FRIEDLEIN Rainer, FLEURENCE Antoine, YAMADA-TAKAMURA Yukiko
Photon Factory News, 30, 3, -, 2012
エピタキシャルシリセン-Si版グラフェン-の構造と電子状態
高村(山田) 由起子
表面科学学術講演会要旨集, 32, 264-264, 2012
23aJB-7 第一原理計算によるZrB_2表面上のSilicene構造の研究(23aJB 表面界面構造(金属・無機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
尾崎 泰助, 川井 弘之, 高村(山田) 由起子
日本物理学会講演概要集, 66.2.4, 2, 931-931, 2011
二ホウ化ジルコニウム薄膜上シリセンの構造と電子状態
高村(山田) 由起子, アントワーヌ フロランス, 川井 弘之, 王 鷹, 尾崎 泰助, ライナー フリードライン
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2011.1, 1584-1584, 2011
25pTG-4 ZrB_2上のSi単一層の第一原理電子状態計算(25pTG 表面界面構造(半導体・無機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
川井 弘之, 尾崎 泰助, 高村(山田) 由起子
日本物理学会講演概要集, 66.1.4, 1, 906-906, 2011
Si(111)上へのZrB2薄膜成長の最適化
FLEURENCE A., ZHANG W., YAMADA-TAKAMURA Y.
日本金属学会講演概要(CD-ROM), 149th, -, 2011
単結晶金属薄膜上のエピタキシャル有機分子結晶成長とその結晶・電子構造解析
FRIEDLEIN Rainer, YAMADA-TAKAMURA Yukiko
マツダ財団研究報告書(科学技術振興関係), 23, -, 2011
分子ワイヤとしての核酸の積層:グアニンおよびアデニン会合における分子間バンド分散の測定
FRIEDLEIN Rainer, WANG Ying, FLEURENCE Antoine, BUSSOLOTTI Fabio, OGATA Yoichi, YAMADA-TAKAMURA Yukiko
Abstracts Book. International Symposium on Surface Science, 132, 37, 12808-12810, 2010
単結晶配向ニホウ化ジルコニウム薄膜表面の構造・電子状態解析
高村(山田)由起子, BUSSOLOTTI R., FLEURENCE A., BERA S., FRIEDLEIN R.
日本金属学会講演概要, 146th, -, 2010
サファイアを基板とした二ホウ化ジルコニウム薄膜のエピタキシャル成長
高村(山田)由起子, BERA Sambhunath
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 70th, 2, -, 2009
二ホウ化物薄膜のエピタキシャル成長
サンブナス ベラ, 高村(山田)由起子
日本金属学会講演概要, 145th, -, 2009
サファイア上における二ホウ化ジルコニウム薄膜の温度依存成長過程
YAMADA-TAKAMURA Yukiko, BERA Sambhunath
化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演要旨集, 20th, -, 2009
Si(111)上のZrB2薄膜成長の走査型トンネル顕微鏡研究
FLEURENCE Antoine, ZHANG W., BERA S., YAMADA-TAKAMURA Y.
化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演要旨集, 20th, -, 2009
グラファイトテンプレートにおける水とアデニンとグアニンのネットワークとの選択的相互作用
WANG Ying, YAMADA-TAKAMURA Yukiko, BUSSOLOTTI Fabio, OGATA Youichi, FRIEDLEIN Rainer
化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演要旨集, 20th, -, 2009
イオンビーム支援窒化物エピタキシャル成長の研究
高村(山田)由起子
日本板硝子材料工学助成会成果報告書(CD-ROM), 25, -, 2007
24aYH-3 ニホウ化ジルコニウム薄膜を介在したシリコン上の窒化ガリウム成長(24aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
高村(山田) 由起子, 王 治涛, 藤川 安仁, 櫻井 利夫
日本物理学会講演概要集, 61.2.4, 2, 732-732, 2006
MBE-SPMによるGaNの研究
高村(山田)由起子, WANG Z. T., 桜井利夫
東北大学金属材料研究所金属ガラス総合研究センター共同利用研究報告書, 2004, -, 2005
28pPSB-38 Bi(001) エピタクシャル超薄膜の構造安定性及び表面融解メカニズム
柳沼 晋, 長尾 忠昭, 藤川 安仁, 高村 由起子, 櫻井 利夫
日本物理学会講演概要集, 58.1.4, 854-, 2003
二層BN薄膜の電子物性
野瀬健二, 高村(山田)由起子, 橘勝彦, 吉田豊信
日本金属学会講演概要, 130th, -, 2002
立方晶窒化ホウ素膜成長に伴う相変化のHRTEM観察
高村(山田) 由起子, 市野瀬 英喜, 吉田 豊信
まてりあ, 40, 12, 1033-1033, 2001
高エネルギーイオンビームを利用したcBN薄膜の機械的・電気的特性改質とその評価—共用設備利用成果報告 ; 粒子ビーム基礎科学分野
高村 (山田) 由起子, 江口 敬祐, 吉田 豊信
共用設備管理部門年報 / 東京大学原子力研究総合センター [編], 29, 76-79, 2001
ナノインデンテーションにおける圧子形状の影響
下野恵美, 高村(山田)由起子, 吉田豊信
日本金属学会講演概要, 124th, -, 1999
cBN薄膜の2段階スパッタ堆積
津田統, 高村由起子, 吉田豊信
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 45th, 2, -, 1998
cBN気相堆積におけるイオン衝撃効果
津田統, 高村由起子, 吉田豊信
日本金属学会講演概要, 123rd, -, 1998
気相合成cBN薄膜のHVHRTEM観察及びEELS分析
高村由起子, 津田統, 市野瀬英喜, 吉田豊信
日本電子顕微鏡学会学術講演会発表要旨集, 54th, -, 1998