高村 由起子 (TAKAMURA, Yukiko)教授
マテリアルサイエンス系, 応用物理学領域

Misc

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Adatom-induced dislocation annihilation in epitaxial silicene
Antoine Fleurence, Yukiko Yamada-Takamura
-, 2020
2次元材料の電子状態解析ーシリセン研究における実験と計算の協奏
高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助
応用物理, 86, 6, 488-492, 2017
シリセン ー π電子を有するモノレイヤーケイ素シートの化学
ライナー・フリードライン, 高村(山田)由起子
化学と工業, 66, 11, 900-902, 2013
シリセン:ケイ素で出来たグラフェン?
高村(山田, 由起子, アントワーヌ・フロランス, ライナー, フリードライン, 尾崎泰助
日本物理学会誌, 68, 5, 305-308, 2013
窒化物半導体薄膜の走査プローブ顕微鏡による微視的評価
高村(山田, 由起子, 王治涛, 藤川安仁, 櫻井利夫
応用物理, 76, 5, 499-504, 2007
エピタキシャルZrB2薄膜を介在したシリコン基板における単一極性GaN薄膜の成長
高村(山田, 由起子, 王治涛, 藤川安仁, 櫻井利夫
日本物理学会誌, 61, 7, 521-524, 2006
硬質薄膜のナノインデンテーション評価技術
高村 由起子
新樹社 月刊トライボロジー, 16, 9, 19-21, 2002
立方晶窒化ホウ素膜成長に伴う相変化のHRTEM観察
高村(山田, 由起子, 市野瀬英喜, 吉田豊信
まてりあ, 40, 12, 1033-, 2001
気相堆積c-BN薄膜とその機械的性質
高村(山田)由起子, 吉田豊信
トライボロジスト, 44, 9, 673-679, 1999